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Target- und Analysenkammer für die Oberflächenanalyse von Si-Wafern mit Laserplasma-induzierter Röntgenstrahlung : im Rahmen des Verbundprojektes "Getriggerte, punktförmige Ultrakurzpulsröntgenquellen für Analytik und Medizintechnik" ; Abschlussbericht zum BMBF-Forschungsvorhaben: 13N 7926 ; für den Zeitraum vom 01.01.2001 bis 28.02.2005

Name: Target- und Analysenkammer für die Oberflächenanalyse von Si-Wafern mit Laserplasma-induzierter Röntgenstrahlung : im Rahmen des Verbundprojektes "Getriggerte, punktförmige Ultrakurzpulsröntgenquellen für Analytik und Medizintechnik" ; Abschlussbericht zum BMBF-Forschungsvorhaben: 13N 7926 ; für den Zeitraum vom 01.01.2001 bis 28.02.2005
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Institut für Küstenforschung

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materialsscience physics silicium

oberflächenprüfung, röntgenfluoreszenzspektroskopie, silicium, dünne schicht, werkstoffoberflächeneigenschaften, physics, materials science, technische optik

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Record · ID 129926
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