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Verbesserung der Performance von ICs durch Integration von Kupfer und low-k Dielektrika (Perfect), "Metallmikrostrukturierung für Leistungshalbleiter und low-k Dielektrika", Teilvorhaben der Technischen Universität Dresden, Institut für Halbleiter- und Mikrosystemtechnik (IHM) : Abschlußbericht ; Förderprojekt

Name: Verbesserung der Performance von ICs durch Integration von Kupfer und low-k Dielektrika (Perfect), "Metallmikrostrukturierung für Leistungshalbleiter und low-k Dielektrika", Teilvorhaben der Technischen Universität Dresden, Institut für Halbleiter- und Mikrosystemtechnik (IHM) : Abschlußbericht ; Förderprojekt
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Technische Universität Dresden, Institut für Halbleiter- und Mikrosystemtechnik

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electrical engineering

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