525a4aee-370f-4ee2-acf5-753caa7b907f-01 LOT-0000 update-add Ergänzung bzgl. Link auf Eignungsunterlagen Addition regarding link to suitability documents 16 false true https://vergabe.fraunhofer.de/ ORG-7001 Fraunhofer-Gesellschaft - Einkauf B12 Fraunhofer-Gesellschaft - Einkauf B12 Hansastraße 27c München 80686 DE212 DEU DE 129515865 Einkauf Betrieb und Infrastruktur +49891205-0 [email protected] ORG-7004 Vergabekammern des Bundes Vergabekammern des Bundes Kaiser-Friedrich-Straße 16 Bonn 53113 DEA22 DEU t:022894990 +49 228 9499-0 [email protected] https://www.fraunhofer.de ORG-7005 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Hansastraße 27c München 80686 DE212 DEU DE-129515865 +49 89 1205-0 [email protected] ORG-7006 Datenservice Öffentlicher Einkauf (in Verantwortung des Beschaffungsamts des BMI) Datenservice Öffentlicher Einkauf (in Verantwortung des Beschaffungsamts des BMI) Bonn 53119 DEA22 DEU 0204:994-DOEVD-83 +49228996100 [email protected] 00501476-2026 137/2026 2026-07-20+02:00 2.3 eforms-sdk-1.13 eforms-sdk-1.13 1f07a9c9-14a8-4f9c-af67-bd0bfc845945 233425b0-780a-470c-8ea9-99ce6672dfcf 2026-07-16+02:00 15:32:51+02:00 01 2026-07-16+02:00 32014L0024 cn-standard DEU ENG https://vergabe.fraunhofer.de/NetServer/ pub-undert gen-pub ORG-7001 ted-esen ORG-7006 vgv epo-notice epo-procurement-document epo-sub-espd exg-sitn-other exg-crim-corrpt exg-crim-part exg-mis-distortion exg-mis-bre-env-law exg-crim-laund exg-crim-fraud exg-crim-traffick exg-sitn-insolvency exg-mis-bre-lab-law exg-sitn-liq-admin exg-mis-misrepresent exg-mis-partic-confl exg-mis-prep-confl exg-mis-misconduct exg-mis-sanction exg-mis-bre-soc-law exg-pmt-bre-ssc exg-sitn-as-susp exg-pmt-bre-tax exg-crim-terror exg-natl-bre-nat-law Es gelten alle einschlägigen zwingenden wie fakultativen Ausschlussgründe, die durch nationales Recht normiert sind. All relevant mandatory and optional grounds for exclusion standardised by national law apply. neg-w-call false PR1216551-3220-P Facet passivation and coating system (HHI-08) - PR1216551-3220-P Facet passivation and coating system (HHI-08) - PR1216551-3220-P Facet passivation and coating system (HHI-08) Facet passivation and coating system (HHI-08) supplies 42900000 32547000 42900000 anyw-cou DEU LOT-0000 slc-abil-ref-work Angabe von mindestens drei in Art und Umfang vergleichbaren Referenzprojekten aus den letzten fünf Jahren, jeweils mit Kurzbeschreibung des Geräts, Angabe des Auftraggebers und Jahresangabe der Leistungserbringung. Als vergleichbare Maschinen gelten Vakuumanlagen mit ECR-Quellen zur Erzeugung von Facettenbeschichtungen von Halbleiterlasern. Provide details of at least three reference projects from the last five years that are comparable in terms of type and scope, including a brief description of the equipment, the client and the year in which the work was carried out. Comparable machines are defined as vacuum systems with ECR sources for the production of facet coatings for semiconductor lasers. slc-abil-staff-yrly-avg-mp Darstellung der Firma Mindestangaben: Gründungsjahr, Anzahl der Mitarbeiter, was wird hergestellt / welche Leistungen werden erbracht --> Alle Angaben bitte in Textform, KEINE Links oder Bilder. Company profile Minimum information: year of establishment, number of employees, what is manufactured/what services are provided --> Please provide all information in text form, NO links or images. slc-stand-other 1. Eigenerklärung über das Nichtvorliegen von Ausschlussgründen nach §123 und § 124 GWB
2. Eigenerklärung-Selfdeclaration (EU) Nr. 833/2014 1. Self-declaration that there are no grounds for exclusion pursuant to Sections 123 and 124 of the German Act against Restraints of Competition (GWB)
2. Self-declaration (EU) No. 833/2014 slc-stand-ratio Umsatz der letzten 3 Geschäftsjahre - Dieses Kriterium ist NICHT das einzige Eignungskriterium. Die vollständigen Eignungskriterien finden Sie hier:
https://vergabe.fraunhofer.de/NetServer/SelectionCriteria/54321-Tender-19e882cd77a-223e4f97637b3dc0 Sales of the last 3 financial years - This criterion is NOT the only eligibility criterion.The full eligibility criteria can be found here:
https://vergabe.fraunhofer.de/NetServer/SelectionCriteria/54321-Tender-19e882cd77a-223e4f97637b3dc0 false false not-allowed eu-funds not-requ false allowed DEU TenderDoc non-restricted-document https://vergabe.fraunhofer.de/NetServer/TenderingProcedureDetails?function=_Details&TenderOID=54321-Tender-19e882cd77a-223e4f97637b3dc0 epo-notice epo-procurement-document late-all Siehe Vergabeunterlagen See procurement documents none no performance Bei evtl. Einsatz von Nachunternehmern sind diese zu benennen, ihre Eignung ist ebenfalls anhand der unter "Ausschreibungsbedingungen" aufgeführten Eignungskriterien nachzuweisen. Ferner ist zu bestätigen, dass sie im Auftragsfall zur Verfügung stehen; deren Anteil am Umfang des Auftragsgegenstandes ist darzulegen. In the event that subcontractors are used, they must be named and their suitability is likewise to be substantiated on the basis of the listed documents under "Tendering terms". Furthermore, it must be confirmed that they will be available if the order is placed; their share in the scope of the contractual object must be stated. allowed not-allowed false per-exa 50.00 quality Technik technical specification Technik technical specification per-exa 10.00 quality Nachhaltigkeit Sustainability Nachhaltigkeit Sustainability per-exa 40.00 price Preis Price Preis Price ORG-7001 https://vergabe.fraunhofer.de Ein Nachprüfungsantrag ist unzulässig, soweit mehr als 15 Kalendertage nach Eingang der Mitteilung des Auftraggebers, einer Rüge nicht abhelfen zu wollen, vergangen sind (§ 160 Abs. 3 Satz 1 Nr. 4 GWB). Ein Nachprüfungsantrag ist zudem unzulässig, wenn der Zuschlag erfolgt ist, bevor die Vergabekammer den Auftraggeber über den Antrag auf Nachprüfung informiert hat (§§ 168 Abs. 2 Satz 1, 169 Abs. 1 GWB). Die Zuschlagserteilung ist möglich 15 Kalendertage nach Absendung der Bieterinformation nach § 134 Abs. 1 GWB. Wird die Information auf elektronischem Weg oder per Fax versendet, verkürzt sich die Frist auf zehn Kalendertage (§ 134 Abs. 2 GWB). Die Frist beginnt am Tag nach der Absendung der Information durch den Auftraggeber; auf den Tag des Zugangs beim betroffenen Bieter und Bewerber kommt es nicht an. Die Zulässigkeit eines Nachprüfungsantrags setzt ferner voraus, dass die geltend gemachten Vergabeverstöße 10 Kalendertage nach Kenntnis gegenüber dem Auftraggeber gerügt wurden (§ 160 Abs. 3 Satz 1 Nr. 1 GWB). Verstöße gegen Vergabevorschriften, die aufgrund der Bekanntmachung erkennbar sind, müssen spätestens bis zum Ablauf der in der Bekanntmachung benannten Frist zur Bewerbung oder zur Angebotsabgabe gegenüber dem Auftraggeber gerügt werden (§ 160 Abs. 3 Satz 1 Nr. 2 GWB) . Verstöße gegen Vergabevorschriften, die erst in den Vergabeunterlagen erkennbar sind, müssen spätestens bis zum Ablauf der Frist zur Bewerbung oder zur Angebotsabgabe gegenüber dem Auftraggeber gerügt werden (§ 160 Abs. 3 Satz 1 Nr. 3 GWB). Applications for review are not permitted if more than 15 calendar days have passed since receipt of notification from the contracting authority that it is unwilling to redress an objection (section 160 (3) sentence 1 no. 4 of the German Competition Act (Gesetz gegen Wettbewerbsbeschränkungen, GWB)). Additionally, applications for review are not permitted if an award has been made before the public procurement tribunal has informed the contracting authority about the application for review (sections 168 (2) sentence 1 and 169 (1) GWB). Contracts may be awarded 15 calendar days after the tenderer information pursuant to section 134 (1) GWB has been sent. If the information is sent electronically or by fax, the period shall be reduced to ten calendar days (section 134 (2) GWB). The period shall begin on the day after which the contracting authority sends the information; the date of receipt by the tenderer and candidate in question shall be irrelevant. The admissibility of a review application also requires that the applicant notified the contracting authority about the claimed violations of public procurement provisions within ten calendar days of becoming aware of them (section 160 (3) sentence 1 no. 1 GWB). Violations of public procurement provisions which become apparent from the tender notice must be notified to the contracting authority by the end of the time limit for the application or the submission of a tender specified in the notice (section 160 (3) sentence 1 no. 2 GWB). Violations of public procurement provisions which only become apparent from the procurement documents must be notified to the contracting authority by the end of the time limit for the application or the submission of a tender (section 160 (3) sentence 1 no. 3 GWB). ORG-7005 ORG-7004 DEU false false allowed false true 2026-07-03+02:00 08:00:00+02:00 false 3 false none none LOT-0000 Facet passivation and coating system (HHI-08) - PR1216551-3220-P Facet passivation and coating system (HHI-08) - PR1216551-3220-P 1 Facet passivation and coating syste
Das ausgeschriebene System ist für die Abscheidung optischer Funktionsbeschichtungen auf optoelektronischen Halbleiterbauelementen vorgesehen, insbesondere für Antireflexbeschichtungen und die Facettenpassivierung von Hochleistungslasern. Bei Hochleistungslasern können Defekte an der Facettenoberfläche zu lokalen Hotspots und thermischen Schäden führen. Herkömmliche Sputterverfahren arbeiten mit vergleichsweise hohen Ionenenergien, was empfindliche Facettenoberflächen beeinträchtigen kann. Die plasmaunterstützte Abscheidung mittels Elektronenzyklotronresonanz (ECR) ermöglicht eine deutliche Reduzierung der Ionenprallenergie durch die Entkopplung der Plasmagenerierung von der Ionenbeschleunigung, was eine schonende und zuverlässige Beschichtung ermöglicht. Aus diesem Grund ist ein ECR-basiertes Beschichtungssystem für die vorliegende Anwendung zwingend erforderlich.
Optionen Extended Warranty Spectral System Measurement range Accuracy - thin films 5-20 nm Accuracy - medium thickness 20-200 nm Optical constants Flip mechanism Cooling water The tendered system is intended for the deposition of optical functional coatings on opto‑electronic semiconductor devices, in particular for anti‑reflection coatings and facet passivation of high‑power laser devices. In high‑power lasers, defects at the facet surface can lead to localized hot spots and thermal damage. Conventional sputtering processes involve comparatively high ion energies, which may adversely affect sensitive facet surfaces. Electron Cyclotron Resonance (ECR) plasma‑assisted deposition enables a significant reduction of ion impact energy by decoupling plasma generation from ion acceleration, allowing gentle and reliable coating. For this reason, an ECR‑based coating system is mandatory for the present application. Optionen Extended Warranty Spectral System Measurement range Accuracy - thin films 5-20 nm Accuracy - medium thickness 20-200 nm Optical constants Flip mechanism Cooling water supplies #Besonders auch geeignet für:other-sme# #Also particularly suitable for:other-sme# true none 42900000 32547000 42900000 anyw-cou DEU 15